Cosa sono gli EPI scrubber

Gli scrubber per applicazioni epitassiali vengono utilizzati nell’industria della produzione di semiconduttori per la rimozione di contaminanti dai gas prodotti durante il processo di deposizione epitassiale dei wafer di silicio.
L’epitassia è una tecnica utilizzata per la deposizione di sottili strati di semiconduttori e gli scrubber vengono utilizzati per rimuovere le sostanze nocive prodotte durante questo processo, che potrebbero disperdersi in atmosfera.

Il principio di funzionamento di un EPI scrubber

Gli scrubber per applicazioni epitassiali sono dispositivi utilizzati per abbattere la concentrazione di sostanze presenti nei gas in uscita dai reattori durante il processo di deposizione epitassiale: un processo utilizzato per la produzione di dispositivi a semiconduttore come transistor e diodi.
Lo scrubber, utilizzando un liquido chimico reattivo, solitamente una soluzione acquosa acida o basica, rimuove i gas nocivi prodotti durante il processo di deposizione epitassiale.
Il gas in uscita dal reattore viene introdotto all’interno dello scrubber insieme al liquido reattivo. Si crea così una miscela nebulizzata, all’interno della quale i gas reagiscono chimicamente con il liquido, formando prodotti di reazione meno nocivi.
Il liquido contaminato viene poi raccolto e smaltito seguendo apposite procedure, sicure e a basso impatto ambientale.
La progettazione e la realizzazione di uno scrubber per applicazioni epitassiali dipende dalle specifiche del processo di deposizione epitassiale utilizzato e dalle normative ambientali locali.
Gli scrubber per applicazioni epitassiali sono progettati per essere altamente efficienti nella rimozione dei gas di scarico prodotti, minimizzando l’impatto ambientale e garantendo la sicurezza degli operatori che lavorano nelle vicinanze.